Plastics_9_2012

БИЗНЕС-ПАРТНЕР П Л А С Т И К С № 9 ( 1 1 5 ) 2 0 1 2 w w w . p l a s t i c s . r u — r e a d t h e a r t i c l e i n e n g l i s h вании собственных отходов производства, а также для предотвращения пероксид- ной сшивки экструдата была разработана специальная гео- метрия шнеков. В последнее время про- изводители фотогальваниче- ских модулей стали активней использовать ЭВА-пленки с двухсторонним тиснением. Для предотвращения сли- пания на стадии намотки экструдированной этилен- винилацетатной пленки ее отдельные слои прокладыва- ют бумажной лентой. Двух- стороннее тиснение снижает площадь контакта и, как след- ствие, адгезионные свойства пленки, что позволяет осу- ществлять процесс намотки без использования прокла- дочного слоя. Позиционирование плен- ки с тиснением в ходе сборки фотогальванических модулей осуществляется значитель- но быстрее, чем в случае ис- пользования гладкой пленки. Кроме того, тиснение ЭВА- пленки упрощает процесс де- аэрации в вакуумной камере собранного фотогальваниче- ского модуля. Новая технология Krauss- Maffei Berstorff позволяет выполнять двустороннее тис- нение по индивидуальному рисунку. Важными свойствами за- щитной пленки при произ- водстве гальванических мо- дулейявляютсяминимальный коэффициент усадки и высо- кий коэффициент светопро- пускания. Подтверждение получе- ния ЭВА-пленок с высокими оптическими свойствами в случаях использования от- ходов собственного произ- водства (размельченные в дробилке обрезки кромок пленки) было получено в ходе проведения соответствующей тестовой серии специалиста- ми Frauenhofer-Center fuer Silizium-Photovoltaik (CSP). Тестировались следующие образцы ЭВА-пленок (рис. 3): — пленка из рецептуры на базе первичного ЭВА (обра- зец 0); — пленка из рецептуры, содержащей 20 процентов дробленых обрезков кромок (образец А20); — пленка из рецептуры на базе «вторичного» ЭВА (обра- зецRG3—использовалсямате- риал, подвергшийся тройному регранулированию). Исследуемые образцы ЭВА-пленок были ламини- рованымежду двумя стеклян- ными пластинами толщиной 2,9 мм каждая. Все тесты на определение коэффициента светоотражения/пропуска- ния проводились в сравне- нии с эталонным образцом из стекла соответствующей толщины. Полученные результаты позволяют сделать следующие выводы: — ЭВА-пленки, полу- ченные на базе «первичной» рецептуры, рецептуры с 20- процентным добавлением дробленки и «вторичной» рецептуры, демонстрируют практическиидентичные про- фили светопропускания; — в спектральной области от 420 до 1100 нм средний ко- эффициент светопропускания всех трех образцов составляет более 99 процентов, а незна- чительное снижение коэф- фициента светопропускания по сравнению с эталонным образцом объяснимо наличи- ем светоотражения в области перехода стекло/пленка. Производители фотогаль- ванических модулей, учиты- вая высокие значения усадки ЭВА-пленок, вынуждены вносить значительные кор- рективы в свои процессыпро- изводства. Несмотря на при- лагаемые усилия, сложность контролирования процесса усадки ЭВА-слоев приводит к возникновению микро- скопических разрывов по- верхности фо- тоячейки, что отрицательно влияет на срок эксплуатации фо т о г а л ь в а - нического мо- дуля. Для опреде- ления коэффи- циента усадки ЭВА-пленок, произведенных на экстру- зионной линии KraussMaffei Berstorff, использовались две стандартные методики. Полу- ченные результаты показыва- ют, что коэффициент усадки ЭВА-пленки в разных темпе- ратурных режимах составляет всего 2-5 процентов (рис. 4). Представленный анализ показывает экономические и технологические преиму- щества новой технологии KraussMaffei Berstorff в об- ласти производства ЭВА- пленок, которые могут зна- чительно расширить спектр своего применения, став аль- тернативой, например, поли- винилбутеральным пленкам в производстве многослойных стекол триплекс. EVA films for photocells Toni Nippe, Holger Schaarschmidt, Bernd Poltersdorf, Andrey Volkov A new technology for ethylene vinyl acetate films production based on post-extrusion section concept developed by Krauss- Maffei Berstorff GmbHexperts cuts self costs and improves sus- tainability of the process. The method allows to produce films up to 3,200mmwidth with reprocessing edge trims unlimitedly havingnonegativeeffect onqualityof the final product.Standard output for the extrusion lines is up to 1,200 kg/h. Рисунок 4. Коэффициент усадки ЭВА-пленки Образец 1 — без термического воздействия; образец 2 — образец на припудренномтальком стекле/электропечь/ 5 мин./160°С; образец 3 — водяная ванна/1 мин./85°С 100 80 60 40 20 0 Светопропускание, % Образцы: Стекло A20 O RG3 250 750 1250 1750 Длина волны, нм Рисунок 3. Коэффициент светопропускания стекла и ЭВА- пленки (источник — Frauenhofer- Center fuer Silizium-Photovoltaik) «КрауссМаффай Берсторфф ГмбХ» 127473 Москва, ул. Краснопролетарская, 30, строение 1, 3 этаж Тел. +7 (495) 937-71-25 Факс +7 (495) 970-17-31 Моб. +7 910 453-93-29 E-mail: KondyrevD@berstorff.ru www.kraussmaffei.com 29